人体に対してこれほど危険な物質でありながら、フッ化水素酸は現代のハイテク文明において1秒たりとも欠かすことができない基幹材料です。その筆頭が半導体の製造用途です。
シリコンウェハーの表面に極微細な電子回路を形成するプロセスにおいて、二酸化ケイ素（SiO₂）の絶縁膜をナノメートル単位で精密に削り取る「エッチング工程」や、不要な酸化膜を除去する「洗浄工程」でフッ化水素酸が不可欠となります。不純物を極限まで排除した「超高純度フッ化水素酸（純度99.9999999999％、いわゆる12ナイン）」を製造できる技術は世界でも日本企業などのごく一部に限られており、グローバルな半導体サプライチェーンの心臓部を担っています。
さらに、古くから知られる特性としてガラスを腐食する作用があります。フッ化水素酸は通常の酸が全く反応しないガラス（主成分SiO₂）を化学反応によって溶かし、気体の四フッ化ケイ素（SiF₄）やヘキサフルオロケイ酸へと変化させます。この性質を利用して、理化学用ガラス器具の目盛り彫刻、液晶ディスプレイの薄型化加工、すりガラスの製造などが行われてきました。
2019年に日本政府が韓国向け輸出管理の運用見直しを行った際、フッ化水素酸を含む半導体関連3品目が対象となり、国際的な外交・経済摩擦へと発展したのは記憶に新しいところです。フッ化水素はウラン濃縮プロセスや化学兵器（サリン等の神経ガス）の原料にも転用可能な「デュアルユース（軍民両用）物質」であるため、フッ化水素酸の輸出管理規制は2026年現在も安全保障貿易管理の枠組みにおいて最重要監視対象として位置づけられています。
